1984年4月1日愚人节，飞利浦与飞利浦组建了一家合资企业，成为一家新公司。新公司的缩写为ALS，与ALS的缩写相同。直到1996年，公司更名为ASML。
那就是现在大名鼎鼎的ASML。
今年，ASML的高NA EUV光刻机成为新的“顶级”设备。其数值孔径（NA）从之前标准EUV光刻机的0.33提升到0.55，镜头分辨率从之前的13纳米提升到8纳米，可实现2纳米以下先进工艺的大规模量产。英特尔、台积电、三星就算花巨资也得赢。
光刻巨头ASML的业务蒸蒸日上。 ASML今年销售了多少台光刻机？
01 ASML有哪些光刻机？
想要知道ASML到底卖出了多少台光刻机，首先要简单了解一下这家光刻巨头打造了哪些类型的光刻设备。
ASML的成长史可以说是光刻机的迭代史。
PAS 2000和PAS 2500的初始阶段
我们回到最初的1984年，当时新的ASML诞生了。当时，ASML的产品只有飞利浦库存的16台PAS 2000。然而，这款光刻机采用的是液压传动工作台，存在着任何客户都无法体会到的巨大缺陷。
发现PAS 2000的问题后，ASML决定开发新一代采用电动晶圆台的光刻机，型号为PAS 2500。1986年，优秀的第二代产品PAS 2500推出，并出售给一家初创公司。美国是第一次。柏（）。
1988年，飞利浦将MEGA生产线迁至台积电，却发生了火灾。于是台积电向ASML采购了17台PAS 2500，成为ASML最大的客户。正是因为这些订单，AMSL终于开始盈利。
PAS 5500，一战成名
PAS 5500 是 ASML 的成名之作。它于 1991 年发布，能够进行扫描光刻。此时，IBM宣布将成为第一家在8英寸晶圆上制造芯片的公司。 PAS 5500已通过IBM行业验证，可小批量交付。
PAS 5500按照模块化设计。客户可根据不同工艺选择不同的元件封装，包括：55/100/200B/250C/300B/400D/700B/750E/850C等，涵盖各种光源（i-line和KrF）、各种尺寸（4 -12 英寸）、各种镜头（i-line 和 KrF 镜头）、各种投影模式 (/)。
这就使得一台设备可以让百花齐放。
PAS 5500的成就不仅限于IBM。三星安装第一台PAS 5500后，采用250nm工艺生产了16Mb内存。 1996年安装设备后，SK海力士于1998年直接成为AMSL最大客户。
和沉浸式技术
时间来到90年代后期，光刻机的波长也从248nm进入到193nm。这就是著名的ArF准分子激光器。
近20年来，业界一直停留在193nm波长上。干式193nm光刻机的极限工艺是65nm，进一步实现将困难重重。业界提出了193nm以上的各种解决方案。相对而言，157nm技术难度稍低。此时，AMSL收购了美国光刻机制造商AVG，并储备了157nm和EUV光刻机。
直到2002年，在157nm技术研讨会上，台积电的林本健提出了浸没式光刻技术，并找到了134nm波长，一石激起千层浪。
虽然浸没式光刻机的想法非常巧妙，但从工程角度来看，实现起来并不困难。 ASML 根据设计 AT:1150i 快速制造了一台具有 134 纳米波长光源的浸没式光刻机。
2006年ASML推出了第一台量产的浸入式机器XT:1700i。 2008年，NXT:1950i推出，用于32nm芯片的量产，并迅速推动ASML开发出一系列适用于sub-32nm工艺节点的光刻系统，包括NXT:1960i、NXT:1965i、NXT:1970i等。
改变时代的 EUV
为了巩固自己的地位，AMSL在开发浸没式光刻机的同时，已经向极紫外光源发起了挑战。它探索了一种产生EUV的新方法：用激光轰击锡珠，使其变成等离子体状态，从而产生EUV。基于这种方法，ASML于2010年推出了第一台EUV原型机。
然而，将原型变成可销售的产品仍然需要大量的投资。预计投资每年可能达到10亿欧元。 ASML没有财力独自完成这一切。为了解决这个问题，它邀请英特尔、三星和台积电参与联合研发。终于在2013年，量产的EUV光刻机NEX:3300B推出——这一年，和接手了公司的领导权。
随后，AMSL于2017年推出：3400B，将光刻机工艺（即电路栅格之间的最小距离）从7纳米推向5纳米。 2020 年初，AMSL 发货了第 100 台 EUV 光刻机。
2023年，再次推出高NA EUV光刻机EXE:5000。从AMSL的路线图来看，新一代High-NA EUV系统EXE:5200将于2025年推出。
02 ASML一共销售了多少台光刻机？
笔者查阅了ASML的财报，整理了其2012年以来的出货量数据。ASML的出货量与其不断增长的光刻机历史密切相关。
DUV光刻机，出货主力
