众所周知，EUV光刻机只能由荷兰ASML制造。然而，这家公司目前状况不佳，无法摆脱美国技术体系，导致失去独立出货权。中国企业也无法获得EUV光刻机。雕刻机无法有效突破高端工艺瓶颈。
在这样的阴影下，美国近期又出手了。据美国相关部门1月6日公布的消息，宁德时代、长鑫内存、中芯国际等多家中国企业被列入新名单。虽然具体限制尚未披露，但显然后续的市场规划不会一帆风顺。
所有的限制自然会回归到芯片层面。美国此前已要求ASML中断对中国企业光刻机的售后维修服务。不过，权衡利弊之后，荷兰尚未妥协。但对于中国市场来说，想要从西方国家获得EUV光刻机可能会更加困难。那么我国芯片产业还有未来吗？
专家发出警告
针对国人常见的疑问，新加坡APS创始人、业内人士王国辉给出了答案。他在接受彭博社采访时回应：中芯国际是中国芯片的核心。该公司有机会利用当今的市场优势来增加其市场价值。赶上台积电，如果中国企业能够研发出国产EUV光刻机，那么芯片大战就结束了！
这句话有很多含义，但显然是对中芯国际的警告：必须摆脱ASML对EUV光刻机的依赖！同时也提醒中国半导体：如果不能获得EUV光刻机，那就加快自主研发进程，否则未来不会有太大希望。
ASML创始人曾傲慢地表示：即使图纸摆在我们面前，我们也生产不出高端光刻机！真的是这样吗？国产EUV光刻机发展到什么阶段了？
EUV 光刻机是世界上最复杂的工业设备，需要超过 100,000 个零件。其核心是极紫外光源技术。这些技术一直被美国垄断。这也是ASML设备出货的起源地。他们有最终决定权。
但现在，哈尔滨工业大学在这项技术上取得了实质性突破。通过实验证实，自主研发的“点等离子体极紫外光刻光源”技术已经可以提供精度达到13.5nm的极紫外光源，可以满足市场的需求。满足所有光刻机的光源要求，同时还具有成本低、效率高、技术难度低的优点。
此外，长春光机所早前已正式宣布在EUV光源技术上取得突破，但所采用的技术方向适合ASML一贯的“激光等离子体”解决方案，包括微投影光学系统、EUV多层膜技术、光学处理和检测等企业和科研机构参与系统、双工件台等核心技术的研发。
虽然在很多核心技术上已经实现了自主化，但要完成最终的EUV光刻机组装，我们仍然需要依靠完整的供应链，而这些供应链来自全球20多个国家和地区。从短期来看，整合并不容易，即使完全自治是可能的，我们也承担不起所需的时间。因此，EUV光刻机的国产化难度仍然很大。
虽然中芯国际已经开发出N+1和N+2工艺，但使用DUV光刻机确实可以实现性能不低于7nm的芯片，而ASML也承认使用DUV光刻机在极限运行下可以实现7nm。 ，甚至5nm芯片制造，但前提是必须牺牲大量成本和良率。
华为麒麟9000S的回归也证实了这一点。 7nm芯片可以满足大部分领域的需求。现在我们已经实现了完全自主，所以能否获得EUV光刻机已经不再重要。重要的是我们现阶段拥有可用的技术。您对此有何看法？ #头条第一大赛#
