英特尔首席执行官帕特·基辛格和首席执行官萨姆·奥特曼在圣何塞的炉边谈话
对于无法从AI等趋势中获得大规模营收的美国芯片巨头英特尔来说，现在需要在制造业务中寻找机会。
钛媒体APP8月8日报道，据路透社报道，2017年和2018年，英特尔和高管曾讨论以10亿美元现金收购当时这家非营利组织15%的股份，但时任英特尔首席执行官鲍勃·斯旺最终决定不推进这笔交易，部分原因是他认为生成式AI模型进入市场的速度不够快，英特尔无法收回投资。
报道称，英特尔之所以对这笔投资感兴趣，是因为这将减少英特尔对英伟达芯片的依赖，并使其能够构建自己的基础设施。然而，英特尔的数据中心部门不愿以成本价生产人工智能芯片产品。结果，它错过了这笔原本可能价值 800 亿美元的交易。
事实上，自2010年以来，英特尔至少四次尝试自主研发生产或者直接投资AI芯片公司，而这些计划当时并未对英伟达和AMD造成影响，同时还可能进入快速扩张和增长的AI时代。但最终，这家创立于半个多世纪前的芯片巨头并未实施上述计划，错过了生成式AI浪潮带来的营收增长，路透社称，这成为英特尔在AI时代遭遇的一系列战略失误之一。
“我们的收入没有像预期的那样增长——而且我们还没有充分受益于人工智能等强大的技术趋势。我们的成本太高，利润率太低。我们需要采取更大胆的行动来解决这两个问题。”英特尔现任首席执行官帕特·基辛格在本月的财报会议上表示，IDM 2.0战略需要坚定不移地执行——换句话说，基辛格正在抓住英特尔制造的这一重要机遇。
8月2日，基辛格在财报发布会上宣布，ASML研发的全球第二台（高数值孔径）EUV光刻机即将进入英特尔位于美国俄勒冈州的晶圆厂，使英特尔能够制造出更先进、更强大的芯片产品，工业级或1nm级别、埃级别的芯片。这台ASML设备总价值约为3.5亿欧元（3.83亿美元）。
“第二台 High NA 设备即将进入我们位于俄勒冈州的工厂，”基辛格表示，并补充说该公司的技术投资“显示出良好的早期指标”。英特尔计划将该设备技术用于为 和 Apple 生产芯片的台积电，今年也将获得同样的 ASML High NA EUV 设备，但尚未透露何时用于生产。
ASML 在第二季度财报发布会上还表示，已经开始向客户出货第二台 High NA EUV 光刻机，不过并未透露具体是哪家客户，现在看来，这家客户就是英特尔。
资料显示，ASML第一代High NA EUV（EXE:5000）分辨率达到8nm，可实现比现有EUV光刻机小1.7倍的物理特征微型化，单次曝光的晶体管密度提升2.9倍，使芯片制造商能够精简制造流程。并且，EXE:5000每小时可蚀刻超过185片晶圆，比目前已用于大批量制造的NXE系统有提升。ASML还制定了2025年推出的第二代High NA EUV光刻机路线图，将产能提升至每小时220片晶圆，确保High NA EUV光刻机在芯片厂部署，对于英特尔而言，这将使其在芯片成本、芯片制造技术等方面处于领先地位。
8月7日，英特尔宣布，首批基于英特尔18A(1.8nm)工艺节点打造的产品——AI PC客户端处理器Lake和服务器处理器，目前它们的样品均已实现出货、开机并成功启动操作系统。距离流片不到两个季度，英特尔再次取得突破。
按照计划，Lake和SoC研发进展顺利，预计将于2025年开始量产。此外，英特尔还宣布，首个采用英特尔18A的外部客户预计将于明年上半年完成流片。
与此同时，英特尔的EDA和IP合作伙伴于7月份获得了英特尔18A PDK 1.0版本的使用权，并正在更新其工具和设计流程，以允许外部代工客户开始基于英特尔18A的芯片设计。
基辛格指出：“我们正在采取果断行动，利用新的运营模式提高运营和资本效率，同时加速 IDM 2.0 转型。这些行动，加上明年推出英特尔 18A 以重新夺回工艺技术领先地位，将加强我们在市场上的地位，提高我们的盈利能力并创造股东价值。”
英特尔高级副总裁兼代工服务总经理凯文·奥康奈尔表示：“这是英特尔代工业务的关键里程碑。面向AI时代，英特尔正在推进多项尖端的系统级代工技术，以服务英特尔的产品部门，英特尔正与客户密切合作，在2025年将英特尔18A推向市场。”
